光譜分析儀器對環境要求較高，一般來說，直讀光譜分析儀使用空間要在12平方米以上；防塵，最好遠離強電場及強磁場的場所；避免振動遠離粉塵；溫度： 15 - 30°C, 允許的最大溫度變化：± 5 °C/小時；濕度: 20 - 80%。

根據直讀光譜儀的外觀尺寸進行實驗室設計，且應將光譜分析儀與制樣設備分開房間放置，為日常操作方便，應在儀器的后，左，右留下一米左右空間。在前方的操作面前留有足夠空間，推薦的實驗室儀器間面積應在12 平米以上。建議放置儀器的房間與放置氬氣及制樣設備的空間分隔開。

放置制樣設備的房間需根據用戶確定的制樣設備情況確認。一臺適當功率的空調。對于潮濕地區，需配備一臺去濕機；如果分析樣品外型不適于光譜儀分析要求，請備一臺切割機。一臺小型吸塵器，用于清潔火花臺。與測試產品相匹配的控制標樣。兩至三瓶氬氣，如氬氣純度無保障，需配置一臺氬氣凈化器電力要求。電壓： AC220，10% 以內 50/60Hz，接地保護的單相電源。(電壓波動超過±10％時需要3KVA 的穩壓器)。地線: 必須單獨建立一條保護地線，接地電阻小于2歐姆。 連接: 電源插口要離主機3M以內，接地端子要離主機3M以內。

光譜分析儀對所用氬氣的要求： 純度為99.996%以上的 (最高含水和含氧量為3ppm),如分析純金屬或高硅或鑄鐵樣品時需用純度為99.999%以上的氬氣(最高含水和含氧量為2ppm)，如分析氮元素含量<0.05%，需采用氬氣凈化器以保證氬氣中的氮，水，氧含量均小于0.5ppm. 氣源接口離主機3M以內 。

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